Thorlabs索雷博 XM11P8 平面超级反射镜
特性
- Ø8 mm单晶GaAs/AlGaAs光学膜
- 中心波长处具有非常高的反射率
- 1064 nm反射镜R > 99.9969%或R > 99.9984%
- 1156 nm反射镜R > 99.999%
- 1397 nm反射镜R > 99.999%
- 1550 nm反射镜R > 99.9984%或R > 99.999%
- 背面为Ø5 mm增透膜
- 厚6.35 mm的Ø1英寸熔融石英基底
- 可与腔体或补偿环光学接触
- 低光学吸收和散射
- 低热阻
- 平面或凹面(曲率半径1 m)选项
- 优化热光噪声的镀膜，用于1064 nm
- 每个超级反射镜具有单独的数据表
- Ø1英寸补偿环在下方出售
应用
- 高精细度激光腔
- 低噪声精密干涉测量
- 高功率激光系统
- 用于原子钟的超稳激光
- 用于引力波探测的反射镜
Thorlabs提供Ø1英寸基底上的高性能单晶超级反射镜镀膜，适用于要求在特定波长可具有最高反射率的应用。下方可选标准1064 nm、1156 nm、1397 nm或1550 nm的带Ø8 mm镀膜的平面和凹面反射镜。晶体膜通过分子束外延技术制备(美国专利：9,945,996；欧盟专利3219832A1)，此技术使单晶半导体材料(如GaAs/AlGaAs)具有准块体性质，且相比溅射非晶介质膜具有更低的弹性损耗。详情请查看晶体膜页面。每个晶体膜反射镜的后侧都镀有与正面晶体膜层相同中心波长的增透膜，光学元件的正面和背面均经过超抛光处理，因此可以与腔体或补偿环光学接触。对于使用这些反射镜的腔体，Ø1英寸补偿环(下方出售)可用于稳定腔体内零膨胀温度。
构建光学原子钟、紧凑型光学参考腔和稳定激光器以及下一代引力波探测器时，这些具有超低光学吸收和超小布朗噪声的高性能超级反射镜都是关键组成。我们的xtal stable™光学元件使用的高质量因子单晶膜能够大大降低固有的热机械振荡，从而显著提高精密干涉仪的整体频率稳定性。我们的晶体膜已用于开创性实验和尖端商业系统中，推进激光线宽和腔噪声的性能极限。
我们的每个超级反射镜都使用光腔衰荡装置进行单独测试，以确保在中心波长下具有极高的反射率和低透射率。点击这里可查看样本数据表。关于这些超级反射镜的设计以及我们强大的测量过程，可查看测量标签。
我们提供光学接触服务，用于使用下面列出的标准反射镜构造定制的光学腔。如果您的应用需要独特膜层，我们为大批量订购的OEM客户提供各种高性能单晶超级反射镜镀膜和量身定制的新型制造工艺。关于我们定制选项的更多信息，请查看晶体膜反射镜制造能力页面。
| Supermirror Specifications | |||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Item #s | XM11P8 | XM11R8 | XM15P8 | XM15R8 | XM16P8 | XM16R8 | XM23P8 | XM23R8 | XM12P8 | XM12R8 | XM14P8 | XM14R8 | |
| Center Wavelength | 1064 nm | 1156 nm | 1397 nm | 1550 nm | |||||||||
| Mirror Shape | Plano | Concave | Plano | Concave | Plano | Concave | Plano | Concave | Plano | Concave | Plano | Concave | |
| Finessea | 100 000 | 200 000 | 300 000 | 300 000 | 200 000 | 300 000 | |||||||
| Crystalline Coating Reflectanceb | >99.9969% at 1064 nm | >99.9984% at 1064 nm | >99.999% at 1156 nm | >99.999% at 1397 nm | >99.9984% at 1550 nm | >99.999% at 1550 nm | |||||||
| Crystalline Coating Transmissionb | >5 ppm at 1064 nm | >3.5 ppm at 1064 nm | >3.5 ppm at 1156 nm | >3.5 ppm at 1397 nm | >5 ppm at 1550 nm | >5 ppm at 1550 nm | |||||||
| Crystalline Coating Loss Angleb,c | < 4 x 10-5 at 300 K < 5 x 10-6 at 10 K | ||||||||||||
| Damage Thresholdd | CWe | 46.2 kW/cm (1064 nm, Ø5.5 mm) | |||||||||||
| Pulsed | 5 J/cm2 (1030 nm, 10 ns, 10 Hz, Ø0.240 mm) | ||||||||||||
| AR Coating Reflectance (Back Sidef) | < 0.1% at Center Wavelength; 0° AOI over Central Ø5 mm | ||||||||||||
| Substrate Material | Corning 7980 0A UV Fused Silicag | Corning 7980 0A UV Fused Silicagg | Corning 7979 0A IR Fused Silicag | Corning 7980 0A UV Fused Silicag | |||||||||
| Surface Roughness | Crystalline Coating: | Crystalline Coating: | Crystalline Coating: | Crystalline Coating: | Crystalline Coating: | Crystalline Coating: | |||||||
- 针对双反射镜系统
- 反射镜正面镀有晶体膜，由所刻的插入符号表示。
- 有关此规格的更多信息，请查看我们的晶体膜反射镜制造能力页面中的技术标签。
- 受晶体膜限制；详细信息，请查看损伤阈值标签
- 光束的功率密度应以W/cm为单位计算。关于为何线性功率密度是长脉冲和CW光源的最佳量度，请查看损伤阈值标签。
- 光学元件中晶体膜层的相对一面
- 可选其他基底材料。咨询请联系技术支持。
- 指定在中心的Ø19.5 mm范围上
| Plano Mirror Specifications | ||
|---|---|---|
| Side of Optic | Front Sidea | Back Sideb |
| Surface Flatness (Peak to Valley) | < λ/10 at 633 nm over Central Ø10 mm | < λ/10 at 633 nm over Central Ø19.5 mm |
| Surface Quality | 10-5 Scratch-Dig over Central Ø10 mm, 20-10 Scratch-Dig from Ø10 mm to Bevel | 20-10 Scratch-Dig over Central Ø19.5 mm |
- 反射镜正面镀有晶体膜，由所刻的插入符号表示。
- 光学元件没有晶体膜的一面。
| Concave Mirror Specifications | ||
|---|---|---|
| Side of Optic | Front Sidea | Back Sideb |
| Radius of Curvature | 1 m (Central Ø18.5 mm) Plano (Annular Region between Ø18.5 mm and Bevel) | Plano over Central Ø19.5 mm |
| Surface Flatness (Peak to Valley) | < λ/10 at 633 nm in Annular Region | < λ/10 at 633 nm |
| Surface Irregularity (Peak to Valley) | < λ/10 at 633 nm over Crystalline Coating (Ø8 mm) | N/A |
| Surface Quality | 10-5 Scratch-Dig over Central Ø10 mm, 20-10 Scratch-Dig in Annular Region Between Ø18.5 mm and Bevel | 20-10 Scratch-Dig over Central Ø19.5 mm |
- 反射镜正面镀有晶体膜，由所刻的插入符号表示。
- 光学元件没有晶体膜的一面。
| Compensation Ring Specifications | ||
|---|---|---|
| Item # | XMCR19 | |
| Material | Premium Grade ULE®* | |
| Clear Aperturea | Chamfer to Through Hole | |
| Side of Optic | Front Sidea | Back Side |
| Surface Flatness | < λ/4 at 633 nm | Commercial Polish |
| Surface Quality | 20-10 Scratch Dig | Commercial Polish |
- 通光孔径是指指明了表面平整度和表面质量的区域。
- 正面的外边缘磨成了倒角边，且经过抛光，便于光学接触。
*ULE是Corning, Inc.的注册商标。
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